襄樊儀表元件廠采用反滲透+混合床工藝制取高純水,用于硅片清洗。主要技術指標:
反滲透產水量≥6T/H,脫鹽率≥98%,水利用率≥75%,產水電導率≤5μS/cm。
混合床離子交換系統:產水量≥10~12 M3/H,產水電阻率≥17MΩ·CM(25℃)。
實際生產運行中,單級反滲透產水電導率為1.98μS/cm,混合床離子交換系統單級出水即達到17.23MΩ·CM,完全滿足廠方生產制造的用水需要。
反滲透+混合床工藝
移出式再生裝置
預處理及混合床
反滲透主機
單級反滲透產水電導率1.98μS/cm
混合床產水電阻率17.23MΩ·cm